芯源微推出浸没式高产能涂胶显影机新品，已通过客户端验证

CTOnews.com 12 月 17 日消息，芯源微是国内涂胶显影细分领域龙头。该公司今日宣布，在公司成立二十周年之际召开新品发布会，推出最新一代的前道浸没式高产能涂胶显影机 FT（III）300。

据介绍，该款机型采用独创的对称分布高产能架构，满配 36 Spin 处理单元，搭载自主研发的双向同步取放机械手，可大幅提升整机的机械传送产能和传送精度，能够匹配全球主流光刻机联机生产，可在复杂工艺下实现 300 片以上产能。

该款机型通过选配可全面覆盖 I-line、KrF、ArF dry、ArF 浸没式等多种光刻技术，也适用包括 SOC、SOH、SOD 等在内的其他旋涂类应用。

为应对未来光刻机产能的不断提升，该机型还可扩充至更多处理单元，同时实现在低占地面积下兼顾机台易维护性，有效提升机台维护效率。

CTOnews.com了解到，该机型还可扩充至更多处理单元，由目前的 36 Spin 扩展为 48 Spin，产能提升到每小时 360 片，同时实现在低占地面积下兼顾机台易维护性，有效提升机台维护效率。

芯源微前道设计部总监程虎表示，作为芯源微自主开发的第三代机型，浸没式高产能涂胶显影机具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。目前，该款机型已通过客户端验证，达到客户量产要求，成功打破国外垄断，填补国内空白。

此外，机台还搭载了公司开发的精确温度调制（PTM）技术，使热盘烘烤温度均匀性达到业界领先水平；拥有全新的 Spin 单元实时控制技术，可有效提升机台运动控制及流体控制精度、响应性及稳定性，持续为客户降低成本；通过仿真优化设计整机流场，确保内部微环境均匀稳定，提升整机的洁净度等级；全系列辅助功能单元，包含 AOI、WEE 系统等，可在线式检测晶圆工艺缺陷，减少不良品流出。