英特尔副总裁:Intel 4 工艺良率高于预期,比起 Intel 7 更注重“能效”
发表于:2024-10-01 作者:千家信息网编辑
千家信息网最后更新 2024年10月01日,感谢CTOnews.com网友 软媒新友1933769 的线索投递!CTOnews.com 8 月 23 日消息,在当地时间 22 日在马来西亚槟城举行的集体采访中,英特尔逻辑开发副总裁 Willia
千家信息网最后更新 2024年10月01日英特尔副总裁:Intel 4 工艺良率高于预期,比起 Intel 7 更注重“能效”
感谢CTOnews.com网友 软媒新友1933769 的线索投递!
CTOnews.com 8 月 23 日消息,在当地时间 22 日在马来西亚槟城举行的集体采访中,英特尔逻辑开发副总裁 William Grimm 表示 Intel 4 制程(CTOnews.com注:原 7nm)的良率高于预期,他对此充满信心。
Intel 4 是英特尔工艺中首次应用极紫外光(EUV)的工艺。根据 IC Knowledge 提供的逆向工程数据,Intel 4 工艺的性能优于台积电 5nm,接近 3nm 工艺,但 William 坚持"很难将 Intel 4 与其他代工厂的现有节点进行比较,所以只是参考外部基准测试执行了自己的 PPA"。
"通过 EUV,我们可以控制工艺复杂性","我们成功收获得了比预期更高的产量",他说道。
William Grimm 介绍称,Intel 4 节点是一个特别注重能源效率的工艺。"如果说 Intel 7 工艺是专注于性能最大化的工艺,那么 Intel 4 则专注于提高能效","它更适合笔记本电脑等应用"。
他还表示,"(EUV 产能)已经有足够的保障来满足市场需求",并且"未来几年的计划,比如 Intel 3 已经确定了"。
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