ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿美元
发表于:2024-10-22 作者:千家信息网编辑
千家信息网最后更新 2024年10月22日,感谢CTOnews.com网友 OC_Formula 的线索投递!CTOnews.com 9 月 6 日消息,ASML 首席执行官 Peter Wennink 近日在接受路透社采访时表示,尽管供应商出
千家信息网最后更新 2024年10月22日ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV 光刻机:体积和卡车相当,每台售价 3 亿美元
感谢CTOnews.com网友 OC_Formula 的线索投递!
CTOnews.com 9 月 6 日消息,ASML 首席执行官 Peter Wennink 近日在接受路透社采访时表示,尽管供应商出现了一些阻碍,但公司仍会按照此前设定的计划,在今年年底之前交付 High NA EUV 机器。
ASML 表示一台高数值孔径 EUV 光刻(High-NA EUV)设备的体积和卡车相当,每台设备的售价超过 3 亿美元(CTOnews.com备注:当前约 21.9 亿元人民币),可以满足一线芯片制造商的需求,可以在未来十年内制造更小、更好的芯片。
Wennink 表示部分供应商无法提高组件的数量和质量,因此导致了轻微的延误,但整体而言这些困难都可以控制,承诺会在今年年底之前交付首台机器。
CTOnews.com此前报道,对于后 3nm 时代,ASML 及其合作伙伴正在开发一种全新的 EUV 光刻机 --Twinscan EXE:5000 系列,该系列机器将具有 0.55 NA(高 NA)的透镜,分辨率达 8nm,从而在 3 nm 及以上节点中尽可能地避免双重或是多重曝光。
相关阅读:
《ASML 分享 High-NA EUV 光刻机最新进展:目标 2024-2025 年进厂》
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