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盛美上海进军涂胶 / 显影 Track 市场：ArF 型号将于 Q4 交付，可满足半导体光刻工艺需求
感谢CTOnews.com网友 航空先生、kinja 的线索投递！CTOnews.com 11 月 21 日消息，据盛美上海发布，盛美半导体设备（上海）股份有限公司 (简称"盛美上海") 是一家为半导
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盛美上海首次推出 Ultra Pmax PECVD 设备，支持逻辑和存储芯片制造
IT 之家 12 月 12 日消息，盛美半导体设备（上海）股份有限公司 (简称"盛美上海") 是一家为半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案的设备供应商，今天宣布推出拥有自主知识产权的 U
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盛美上海推出负压清洗平台：用于芯粒和 3D 封装芯片，明年一季度交付
CTOnews.com 9 月 14 日消息，盛美半导体设备（上海）股份有限公司今日宣布推出"负压清洗平台"，以满足芯粒和其他 3D 先进封装结构清除助焊剂的独特需求。据介绍，清除回流焊后使用的助焊剂
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盛美上海首台前道 ArF 工艺涂胶显影设备 Ultra LITH 顺利出机
CTOnews.com 12 月 29 日消息，盛美上海宣布，首台具有自主知识产权的涂胶显影 Track 设备 Ultra LITH 成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道 ArF 工艺涂胶显影 T
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从砂到芯：芯片的一生
芯片承载着人类最先进的科技。如今中国已成为芯片设计强国，但在芯片制造上却处处被卡，芯片制造究竟难在哪里？时至今日，芯片已形成一套非常成熟专精的制造流程 [1]，它并非简单地一步到位，而是分为存在一定时
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